曝光机面操作介绍
曝光计时器用于记录曝光次数。
曝光控制器:根据不同的曝光强度和不同框架,自动调节曝光时间,用于显示光通量设定值,而不是曝光时间。
人工曝光定时器用于设定60秒以内的曝光时间定时器外环用于设定时间,中间按钮用于启动曝光曝光时,顺时针中间按钮则停止曝光。
曝光启动开关用于启动正常曝光操作。
机内照明开关用于进行定位照明。
东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺,平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工,有多年经验,有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈,可免费打。
显影的主要过程如下:对准曝光一曝光后烘一显影一坚膜一显影检测。
对准曝光
对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段,使用的掩膜曝光机,即光刻机,集中了光刻工艺中重要的工艺技术。
对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。
使用的光刻机根据不同的曝光原理,分为接触式曝光,接近式曝光和投影式曝光。也可按自动化程度高低
手动
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曝光机采用多波段UVLED平行曝光光源,结合CCD视觉定位,可更好地解决存在的各类工艺难点。
3D曲面曝光显影整体方案的优势解决了3D曲面玻璃,包含四曲面印刷难题;图形转印技术单层多层套印精度高;雾化喷涂确保厚度均一性,提高致密性;采用图形转印技术,良率较高;4-10寸3D曲面盖板制程产能优势明显等等。
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曝光:由于涂覆PCB线路板基材上的绝缘介质层厚度较厚,因此,要采用较大率的曝光机对PCB线路板进行曝光,如采用7千瓦的金属卤化物的灯和在具有平行的曝光机上行。在烘干的绝缘介质层表面上的光量应在200至250之间,其曝光时间可由光梯尺表等试验或供应商提供的条件进行和调整,一般应采用较大曝光量和较短时间曝光。经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。对于采用低功率曝光机,由于光能量低,造成曝光时间长,则光的折射、衍射等加重,这对于制造精细节距或高密度互连的导通孔是不利的。
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