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镀膜技术都需要一个特定的真空环境，以保证制膜材料在加热蒸发或溅射过程中所形成蒸气分子的运动，不致受到大气中大量气体分子的碰撞、阻挡和干扰。由于在真空条件下制膜，所以薄膜的纯度高、密实性好、表面光亮不需要再加工，这就使得薄膜的力学性能和化学性能比电镀膜和化学膜好。

真空镀膜加工是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。

真空镀膜加工是保证真空镀膜镀膜质量的关键。镀膜操作：待真空镀膜镀件上架并装上钨丝，然后入炉，检查接触是否良好，转动正常，关真空镀膜真空室，抽真空。

真空镀膜技术之物理气相沉积技术，它利用某种物理过程，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。

真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有障碍。镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。

Parylene是一种保护性高分子材料，中文名，聚对二甲苯，派瑞林它可在真空下气相沉积，Parylene活性分子的良好穿透力能在元件内部、底部，周围形成无孔，厚度均匀的透明绝缘涂层。

在镀膜领域，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的一个重要因素。薄膜的成膜过程，是一个物质形态的转变过程，不可避免地在成膜后的膜层中会有应力存在，对于多层膜来说有不同膜料的组合，各膜层体现出的应力是有所不同的，有的是张应力、有的是压应力，还有膜层及基片的热应力。

真空镀膜就是于真空室内，采用一定方法使材料凝聚成膜的工艺。在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。　广义的真空镀膜还包括在属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。