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真空镀膜是一种由物理方法造成塑料薄膜原材料的技术性，在真空泵房间内原材料的分子从加温源混凝土离析出去打进被镀物件的表层上。该项技术性用以生产制造光学激光镜片，如远洋航行望远镜镜片等；后拓宽到别的作用塑料薄膜，游戏设备镀铝膜、装饰设计镀膜和原材料表层改性材料等，纳米镀膜生产商，如腕表机壳镀仿金黄，机械设备数控刀片镀膜，更改生产加工红强制。真空镀膜有三种方式，即挥发镀膜、磁控溅射镀膜和等离子喷涂。真空镀膜的作用是各个方面的，这也决策了其运用场所比较丰富。整体而言，真空镀膜的关键作用包含授予被镀件表层高宽比金属质感和镜面玻璃实际效果，在塑料薄膜原材料上使膜层具备优异的隔绝特性，出示出色的磁屏蔽材料和导电性实际效果。

真空镀膜技术性被称作发展前景的关键技术性之一， 镀膜企业并已在高新技术产业发展的发展趋势中展示出的行业前景。

钕铁硼稀土磁性材料是一种问世不久的新型强磁材料。目前国内常用两种方法进行防护，一种是传统的电镀工艺在 铁硼磁性材料表面镀上镍、锌或锡、金等。这些涂层有时会影响磁性材料的表磁等特性，有的在盐雾试验时仍不能对钕铁硼磁性材料提供有效的防护。另一种方法是用环氧树脂材料进行电泳涂敷，但电泳涂敷时工件表面必须有一挂点，挂点的修补不仅费工费时，而且质量难以保证，而Parylene涂层技术可控制涂层厚度进行无支点全涂敷防护。派瑞林（Parylene）又是一种透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，目前国外小型钕铁硼稀土磁性材料都已采用派瑞林（Parylene）进行防护。

用制备派瑞林的方法是化学气相沉积法(CVD)，反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程为环状二聚体在高温下两个相连碳碳键断裂，生成具有活性的对二亚苯单体，当其从高温环境进入室温环境的沉积室时，不稳定的单体就会聚合成膜。整个制备工艺过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。

派瑞林(Parylene)中文名为聚对二，是一种高分子热可塑性聚合体，由单体对二在真空状态下均匀分布在被涂装物的缝隙和表层然后聚合。运用气相沉积的处理技术，可以于物体表面均匀涂覆形成膜厚，是一种保护性高分子材料。派瑞林(Parylene)它可在真空下气相沉积，派瑞林(Parylene)活性分子的良好穿透力能在元件内部、底部，周围形成无，厚度均匀的透明绝缘涂层，给元件提供一个完整的防护涂层，抵御酸碱、盐雾、霉菌及各种腐蚀性气件的侵害，这种室温沉积制备的0.1～100μm薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，是当代有效的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。

派瑞林涂层薄膜的止回阀。微阀具有扭曲型的派瑞林涂层膜, 当有流体顺流时, 派瑞林涂层薄膜抬起, 允许流体通过; 当有流体逆时,派瑞林涂层薄膜封住了通道阻止其流动。该结构的微阀顺流冲破压力小于0. 5 kPa, 逆流的制止压力达600 kPa以上, 同时具有较低的反向泄漏, 性能非常好。由于派瑞林涂层较小的杨氏模量, 产生了较大的变形, 基本可以忽略由薄膜引起的流体阻抗。单通道常闭微止回阀, 整个微阀和微通道都是由派瑞林涂层 C制成的, 其结构为在圆形阀座上的一个圆形的密封板。密封板是固定在子腔薄膜的顶部中心, 由于大气压强使子腔压缩到底部, 从而获得微阀的闭合模式。这种新型的子腔结构是通过没有层结构的释放和在真空条件下派瑞林涂层薄膜的气相沉积来实现的。通过减小密封板和阀座的重叠面积和溅射金属金来减小静摩擦力, 从而减小顺流冲破压力。此种结构的微阀的顺流冲破压力为20～40 kPa, 在逆流压力为270 kPa也不会出现可见的泄露现象。